
XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) is a high-sensitivity spectroscopic technique capable of analyzing the surface chemistry of a material at the nanometer scale. It is particularly used for qualitative and quantitative analysis of surface composition within a depth of 1–10 nm. XPS has become one of the fundamental characterization methods in nanotechnology materials science and surface engineering by providing critical information on elemental composition, vine species oxidation states and s
EN
Kader Göksu

XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy), bir malzemenin yüzey kimyasını nanometre ölçeğinde analiz edebilen yüksek hassasiyetli bir spektroskopik tekniktir. Özellikle 1–10 nm derinlikteki yüzey bileşiminin nitel ve nicel analizinde kullanılır. XPS; elementel kompozisyon, bağ türleri, oksidasyon durumları ve yüzey işlevselleştirme gibi kritik bilgileri sunarak nanoteknoloji, malzeme bilimi ve yüzey mühendisliğinde temel karakterizasyon yöntemlerinden biri haline gelmiştir.XPS’in Temel PrensipleriX
TR
Kader Göksu